Powered by Blogger.

Wednesday, September 28, 2011

Exposure Basics - Batch 2

July 2011

Kami masih mengekalkan skala atau penglibatan dalam jumlah yang kecil dalam setiap bengkel yang di adakan. Tujuannya supaya saya dapat memberikan perhatian sepenuhnya kepada setiap peserta & dapat attend to all their needs :-)

Exposure Basics sebenarnya lebih teknikal. Kebanyakan dari peserta bengkel yang pernah kami anjurkan adalah tergolong oleh para wanita dan ibu yang kebanyakannya baru mempunyai DSLR dan ingin belajar tetapi malu untuk pergi ke kelas-kelas lain yang majoritinya adalah kaum lelaki. Jadi My Friends Lollipop nampaknya dapat menunaikan hasrat mereka itu dengan membuat satu bengkel yang lebih santai, seronok dan bebas untuk bertanya. lebih-lebih lagi memang sesuai untuk para ibu yang ingin mengambil gambar anak-anak mereka dengan lebih baik. Apatah lagi saya juga merupakan seorang ibu. Lalu secara tidak langsung, tercipta 'chemistry' antara kami di situ. Komunikasi dua hala yang dipraktikkan dalam setiap bengkel nampaknya dapat memberikan hasil kepada para peserta.

Gambar-gambar dari workshop ni pun rupanya belum sempat saya update. saya akan update segera, ok!

Modul perkongsian ilmu :

. Elemen-elemen asas dalam exposure .
. Shutter speed . Aperture . ISO .
. Hubungkait antara ketiga-tiga elemen untuk menghasilkan potret kanak-kanak yang baik .
. Rule of thumb .
. Freezing movement .
. Blurring movement .
. Depth of field (DOF) .
. Pemahaman 'overexposed' & 'underexposed' .
. Aplikasi exposure dalam potret kanak-kanak : Praktikal secara terperinci untuk memahami ketiga-tiga elemen asas .
. Menggunakan mode 'Manual' dalam mengambil potret kanak-kanak .
. Bagaimana kreativiti dan imaginasi mempengaruhi pengawalan exposure dalam potret kanak-kanak .
. Segmen khas : "Apa yang saya mahu?"




0 comments:

Followers

  © Free Blogger Templates 'Photoblog II' by Ourblogtemplates.com 2008

Back to TOP